UP-206 金屬圓柱腔式微波等離子體CVD設備。
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產品介紹:
UP-206系列金屬圓柱腔式MPCVD設備設計先進,性能可靠。硬件配置采用業內知名高可靠性品牌,保障設備長時間穩定運行。軟件系統采用高度集成的PLC控制,所有操作均可在觸摸屏上一鍵完成。工藝配方功能強大,可支持多達10套不同工藝自動生長。內置恒溫功能,開啟后設備全自動監控調節,省時省力。非常適于沉積單晶金剛石片,人工鉆石毛胚等,已實現給各企業及研究院所大批量出貨。
技術指標與特性:
1.微波系統(采用進口微波源)
微波頻率
2450±25MHz
輸出功率
0.6kw~6kw 連續可調
微波泄漏
離設備 5cm 處,微波泄漏≤ 2 mw/cm2
2.真空系統
工作氣壓范圍
10~250Torr
自動穩壓范圍
40~250Torr
真空泵
采用 4.4L/s 旋片式真空泵
系統漏率
<1.0×10-9 Pa*m3 /秒 (通過氦質譜檢漏儀檢測)
腔體保壓能力
每 24 小時壓升小于 0.2 Torr
本底極限真空
0.1Pa(7.5×10-4 Torr)
3.真空反應腔及基片臺
反應腔材料及結構
雙層水冷不銹鋼反應腔
電動升降式水冷基片臺,直徑 100mm
鉬基片臺直徑≥50mm
4.氣路
系統自帶四路 MFC,可擴展至六路
選用日本富士金進口流量計及流量控制閥
5.測溫系統
選用德國品牌紅外測溫儀,范圍:300~1300 攝氏度
6.軟件
配置 PLC 控制的 15“觸摸顯示屏,用戶操作界面友好,所有操作均可在觸摸屏上完成
自帶缺水,缺氣,電源缺相,火球跳變,過溫過載,打火等自動保護
生產流程通過工藝配方自動控制,可設置多達十套工藝配方
系統自帶全自動抽氣,點火,升溫,降溫等預設流程,用戶操作簡便
全自動溫度控制,氣壓控制,極大減輕系統操作員的工作量
UP-206 金屬圓柱腔式MPCVD設備
ALD-1200-PE原子層氣相沉積系統
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