可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業領先的軟件控制系統。
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產品概述： 本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業領先的軟件控制系統。 設備用途： 用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
技術參數：
PVD500 高真空磁控濺射薄膜沉積系統
JGP560 高真空磁控濺射薄膜沉積系統
高真空磁控濺射薄膜沉積系統
磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統
SMART磁控濺射薄膜沉積系統
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